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J-GLOBAL ID：201702234812638837   整理番号：17A1767317

巻き取り法とスパッタリング法により形成したヘテロ-ナノワイヤハイブリッド膜:熱電特性に及ぼすヘテロ-ナノワイヤの影響

Hetero-Nanowire Hybrid Films Prepared by Rolling-Up and Sputtering Methods: Effect of Hetero-Nanowires on Their Thermoelectric Properties

著者 (3件)： KIM Byeong Geun (Korea Univ. Technol. and Education, Cheonan, KOR) ,  CHOI Soon-Mok (Korea Univ. Technol. and Education, Cheonan, KOR) ,  LIM Chang-Hyun (Korea Inst. Ceramic Engineering and Technol., Jinju, KOR)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 17  号： 10  ページ： 7677-7680  発行年： 2017年10月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本稿では,ナノワイヤ(NWs)ハイブリッド膜を作製するための方法およびNWハイブリッド膜の熱電特性について報告した。単結晶Sb₂Te₃NWsをテンプレートとして使用し,多結晶Ptおよび非晶質Siシェル層で被覆して,Sb₂Te₃/PtおよびSb₂Te₃/Siコア/シェルNWsを作製した。Sb₂Te₃,Sb₂Te₃/Pt,およびSb₂Te₃/Siコア/シェルNWsを巻き取り法により可撓性ポリイミドフィルムに転写した。マグネトロンスパッタリング法により,転写したヘテロ-NWsをSb₂Te₃膜で被覆し,3種類のヘテロ-NWsハイブリッド膜を作製した。それらの熱電特性を測定し,異なるシェル層の影響を調べた。著者等は,本研究が,ハイブリッド系の熱電性能の理解を助けるとともに,熱電デバイス強化のためのハイブリッド系のモデル化に役立つことを示唆した。

シソーラス用語： *巻取 ,  *スパッタ蒸着 ,  *構成 ,  *素子構造 ,  *ナノワイヤ ,  *膜 ,  *電気特性 ,  アンチモン化合物 ,  テルル化物 ,  白金 ,  ケイ素 ,  *コアシェル構造 ,  高分子薄膜 ,  転写 ,  *熱電素子
準シソーラス用語： *スパッタリング蒸着 ,  *薄膜形成 ,  *ヘテロ構造 ,  *ハイブリッド膜 ,  *熱電特性 ,  テルル化アンチモン ,  Pt ,  Si ,  ポリイミド薄膜 ,  *熱電デバイス

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  熱電デバイス  (NC03090J)

タイトルに関連する用語 (5件)： 巻き取り ,  スパッタリング法 ,  ナノワイヤ ,  ハイブリッド膜 ,  熱電特性