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J-GLOBAL ID：201702234817556425   整理番号：17A0550915

時間的・空間的隔たり産み出すミスト流を用いた新反応制御技術の開発

著者 (14件)： 川原村敏幸 (高知工科大) ,  DANG Giang T. (高知工科大) ,  LIU Li (高知工科大) ,  PRADEEP E.K.C. (高知工科大) ,  龍田宗孝 (高知工科大) ,  古田守 (高知工科大) ,  須和祐太 (高知工科大) ,  佐藤翔太 (高知工科大) ,  中曽根義晃 (高知工科大) ,  山沖駿友 (高知工科大) ,  西美咲 (高知工科大) ,  小林勇亮 (高知工科大) ,  坂本雅仁 (高知工科大) ,  RUTTHONGJAN Phimolphan (高知工科大)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 64th  ページ： ROMBUNNO.17a-502-10  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *薄膜成長 ,  アルミナ ,  ガリウム化合物 ,  亜鉛化合物 ,  酸化インジウム ,  イットリウム鉄ガーネット ,  *成長速度 ,  *比率 ,  *ミストCVD ,  酸化インジウム・ガリウム・亜鉛
準シソーラス用語： IGZO【半導体】 ,  YIG【ガーネット】 ,  組成比

分類 (3件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  半導体薄膜  (BK14040E) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 隔たり ,  ミスト流 ,  反応制御 ,  開発