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J-GLOBAL ID：201702234863686636   整理番号：17A1492653

電気化学エッチングを用いたタングステン合金の無研磨剤研磨【Powered by NICT】

Abrasive-free polishing of tungsten alloy using electrochemical etching

著者 (4件)： Deng Hui (Department of Mechanical and Energy Engineering, Southern University of Science and Technology, No. 1088, Xueyuan Road, Shenzhen, Guangdong 518055, China) ,  Huang Rui (Singapore Institute of Manufacturing Technology, 73 Nanyang Drive, 637662, Singapore) ,  Liu Kui (Singapore Institute of Manufacturing Technology, 73 Nanyang Drive, 637662, Singapore) ,  Zhang Xinquan (Singapore Institute of Manufacturing Technology, 73 Nanyang Drive, 637662, Singapore)
資料名： Electrochemistry Communications  (Electrochemistry Communications)
巻： 82  ページ： 80-84  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1133A  ISSN： 1388-2481  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： タングステン合金を電気的及び光学的応用のための重要なエンジニアリング材料である。しかし,タングステンの無損傷と高効率研磨はまだ実現されていない。電気化学研磨(ECP)を用いたタングステン合金の研磨剤なし研磨,エッチングプロセスを報告する。研磨効率と表面品質の間のバランスを達成するために,2段ECPプロセスを提案した。,第一段階として,3分間持続電流に駆動されたECPは,表面研削マークと表面下損傷を速やかに除去が次の電位駆動ECPは20分間持続した,第二段階,表面粗さ改善とRa粗さ17.6nmの超平滑表面を最終的に得た。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *研磨剤 ,  化学研磨 ,  電位 ,  *研磨 ,  表面性状 ,  滑面 ,  *タングステン ,  電流 ,  *タングステン合金 ,  電解研磨 ,  研削
準シソーラス用語： 高効率 ,  *電気化学エッチング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： タングステン合金 ,  電解研磨 ,  研削マーク ,  Roughness ,  表面下損傷層

分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電気化学エッチング ,  タングステン合金 ,  研磨剤 ,  研磨