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J-GLOBAL ID:201702235002048748   整理番号:17A0793937

非線形光学と超高速フォトニクスのための新しい低次元材料【Powered by NICT】

Emerging Low-Dimensional Materials for Nonlinear Optics and Ultrafast Photonics
著者 (6件):
資料名:
巻: 29  号: 14  ページ: ROMBUNNO.201605886  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0001A  ISSN: 0935-9648  CODEN: ADVMEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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低次元(LD)材料は興味ある光学的性質,多様な分野への応用を示し,フォトニクス,生物医学およびエネルギーである。還元構造次元性による電子構造の変調により,同時に金属,半導体とトポロジカル絶縁体(TI)のLDバージョンは,それらのバルク対応物と比較して異なる非線形光学(NLO)特性を示した。短パルスレーザ励起との相互作用は,NLO吸収によって明らかにされた強い非線形特性を示し,異なる物質の励起状態吸収とPauliブロッキングに関連する光学的制限または飽和吸収を生じさせた。特に,二次元半導体と同様にコロイドTIナノ粒子を含むこれらの新たなLD材料の可飽和吸収は最近,可視,近赤外および中赤外波長領域を横切るQスイッチングとモード同期超短パルス発生のための利用されてきた。大きな動作帯域幅に加えて,これらの超高速フォトニクス応用は特に高回収率と同様にこれらのLD材料の容易な加工性から利益を得た。これらLD材料の顕著なNLO応答も超高速レーザを越えた全光制御だけでなく光回路のための新しいNLOおよびフォトニクスデバイスの開発のための新しい道を提供した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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非線形光学  ,  原子・分子のクラスタ 
タイトルに関連する用語 (3件):
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