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J-GLOBAL ID:201702235108296271   整理番号:17A1383912

垂直Co/Ni多層膜における粗さに誘起された分域構造【Powered by NICT】

Roughness-induced domain structure in perpendicular Co/Ni multilayers
著者 (10件):
資料名:
巻: 441  ページ: 283-289  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0644A  ISSN: 0304-8853  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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種々の厚さのCuシード層上に成長させたCo/Ni膜の粗さ,残留磁化と保磁力の間の相関を調べた。Ta/Cu/8×[Co/Ni]薄膜のCuシード層の厚さを増加すると,膜の粗さを増加させた。面内磁化ループは残留磁化と保磁力の両方がシード層粗さが増加すると増加することを示した。極性Kerr顕微鏡と磁気力顕微鏡観察は,分域密度は粗さと共に増加することが明らかになった。周期的に変調された表面を有する構造物について行った有限要素マイクロマグネティックシミュレーションは更なる洞察を提供する。ドメイン密度と粗さの間の関係を確認し,粗い膜で増加した残留磁化の源としてのドメイン壁のmicrosocpic構造を同定した。シミュレーションは分域壁の特性は滑らかな膜におけるBloch様から粗い膜のNeel好むことを予測した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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金属薄膜 

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