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J-GLOBAL ID：201702235123862291   整理番号：17A1064256

光Fenton酸化技術を応用したによる工業廃水からの有機汚染物質の除去【Powered by NICT】

Removal of organic pollutants from industrial wastewater by applying photo-Fenton oxidation technology

著者 (3件)： Ebrahiem Ebrahiem E. (Chemical Engineering Department, Faculty of Engineering, Jazan University, Saudi Arabia) ,  Al-Maghrabi Mohammednoor N. (Faculty of Engineering, King Abdul-Aziz University, Jedddah, Saudi Arabia) ,  Mobarki Ahmed R. (Chemical Engineering Department, Faculty of Engineering, Jazan University, Saudi Arabia)
資料名： Arabian Journal of Chemistry  (Arabian Journal of Chemistry)
巻： 10  号： S2  ページ： S1674-S1679  発行年： 2017年 
JST資料番号： W3189A  ISSN： 1878-5352  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究の一般的戦略は化粧品廃水中に存在する残留有機汚染物質の除去のための高度な光酸化法(Fenton酸化プロセス)を適用する可能性の評価に基づいている。水溶液中の染料の化学的酸化プロセスに影響する種々のパラメーターをFenton反応を用いて調べた。これらのパラメータは,pH,過酸化水素(H_2O_2)用量,硫酸第一鉄(FeSO_47H_2O)用量,初期染料濃度,および時間であった。最適条件であることが分かった:pH=3,1ml/l H_2O_2と0.75g/lのFe(II)とFe(III)と反応時間40分であった。最後に,化学的酸素要求量(COD),酸化プロセス後は,廃水からのそれらの除去中の有機染料の全分解を確実にするために測定した。実験結果はFenton酸化プロセスは95%以上の非常に良好な除去効率を達成できることが分かった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光酸化 ,  最適条件 ,  *酸化 ,  Fenton反応 ,  水溶液 ,  過酸化水素 ,  *廃水 ,  COD【水質】 ,  染料 ,  *工場廃水
準シソーラス用語： 除去効率 ,  有機染料 ,  *フェントン酸化 ,  *有機汚染物質 ,  *光-Fenton , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： Fenton ,  高度酸化 ,  廃水処理と化学的酸素要求量(COD)

分類 (2件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光Fenton ,  酸化 ,  応用 ,  工業廃水 ,  有機汚染物質