文献

J-GLOBAL ID：201702235174569629   整理番号：17A0072286

LA_(1-X)SR_XCO_(1-Y)FE_YO_3薄膜のNTC特性に及ぼすアニーリング温度の影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Influences of annealing temperature on the NTC resistance temperature characteristic of La_(1-x)Sr_xCo_(1-y)Fe_yO_3 thin films

著者 (4件)： Ta Shiwo (State Key Laboratory of Advanced Materials and Electronic Components, Guangdong Fenghua Advanced Technology Holding Co., Ltd) ,  Zhu Pei (State Key Laboratory of Advanced Materials and Electronic Components, Guangdong Fenghua Advanced Technology Holding Co., Ltd) ,  Li Zhenxin (State Key Laboratory of Advanced Materials and Electronic Components, Guangdong Fenghua Advanced Technology Holding Co., Ltd) ,  Fu Zhenxiao (State Key Laboratory of Advanced Materials and Electronic Components, Guangdong Fenghua Advanced Technology Holding Co., Ltd)
資料名： Dianzi Yuanjian yu Cailiao  (Dianzi Yuanjian yu Cailiao)
巻： 35  号： 8  ページ： 33-36  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2506A  ISSN： 1001-2028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： LA_(1-X)SR_XCO_(1-Y)FE_YO_3(X=0.2,Y=0.3)セラミックターゲットを用いた。LA_(0.8)SR_(0.2)CO_(0.7)FE_(0.3)O_3(LSCF)薄膜を,RFマグネトロンスパッタリングによってAL_2O_3基板上に調製し,次に,NTCサーミスタを調製した。X線回折(XRD)を用いて、材料相の組成を分析し、走査型電子顕微鏡(SEM)分析により、薄膜材料の微細構造、電気抵抗測定器と四探針装置による薄膜の抵抗特性を測定した。LSCF薄膜の室温抵抗と材料定数(B値)に及ぼす異なるアニーリング温度の影響を研究した。その結果,アニール温度の上昇とともに,LSCF薄膜の抵抗およびB値は,最初に減少し,次に,増加し,そして,それらは,著しいNTC特性を持ち,そして,INR-T(-1)曲線は,良好な線形性を持った。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 線形性 ,  走査電子顕微鏡 ,  プローブ ,  サーミスタ ,  微細構造 ,  *薄膜 ,  焼なまし ,  X線回折
準シソーラス用語： 材料定数 ,  電気抵抗測定 ,  薄膜材料 ,  RFマグネトロンスパッタリング ,  *アニーリング温度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： La_(0.8)Sr_(0.2)Co_(0.7)Fe_(0.3)O_3 ,  thin films ,  RF magnetron sputtering ,  crystallization behavior ,  NTC thermistor ,  R-T characteristic

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄膜 ,  NTC ,  アニーリング温度 ,  研究