ヒアルロニダーゼに対する抵抗性およびUV光に対する保護ヒアルロナンの新しい水分保存誘導体【Powered by NICT】

Sun Feifei; Niu Hong; Wang Dongdong; Wu Yuanyuan; Mu Haibo; Ma Lili; Duan Jinyou

文献

J-GLOBAL ID：201702235283402780 整理番号：17A0402043

ヒアルロニダーゼに対する抵抗性およびUV光に対する保護ヒアルロナンの新しい水分保存誘導体【Powered by NICT】

Novel moisture-preserving derivatives of hyaluronan resistant to hyaluronidase and protective to UV light

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資料名：
巻： 157 ページ： 1198-1204 発行年： 2017年
JST資料番号： E0961A ISSN： 0144-8617 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

現在の研究は,ヒアルロナン(HA)の優れた水分吸収保持能力を明らかにしたが,HAは皮膚表面にヒアルロニダーゼにより容易に分解した。ヒアルロニダーゼに対する低い細胞毒性のない代替誘導体を開発するために非常に必要である。光かご化基で修飾したHAを合成した。光ケージ化HA(HA DMNB)の水分吸収保持容量とヒアルロニダーゼ抵抗と異なる時間(IHA DMNB)の紫外線による照射HA DMNBの生成物を調べた。結果はHA DMNBはHAよりもヒアルロニダーゼに対して高い耐性を持ち,HA DMNBはH_2Oと結合する紫外にHAの遊離カルボキシル基を放出することができることを示した。より重要なことは,HA DMNBはUV光に対する保護的であった。添加では,HA DMNBとIHA DMNBはHaCat細胞に対して無毒性であることが観察された。本研究はHA DMNBは水分保持試薬として効果的に使用できることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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多糖類 , 酵素一般

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