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J-GLOBAL ID:201702235765919891   整理番号:17A1713243

膜/基板系の付加的パルス電子ビーム融解によるTiNi形状記憶合金上に作製したTi Taベース表面合金の微細構造の特性化【Powered by NICT】

Microstructural characterization of Ti-Ta-based surface alloy fabricated on TiNi SMA by additive pulsed electron-beam melting of film/substrate system
著者 (14件):
資料名:
巻: 730  ページ: 376-385  発行年: 2018年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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TiNi形状記憶合金(SMA)は,超弾性と高い腐食抵抗の組合せによるユニークな金属生体材料である。TiNi SMAの生物医学的応用のための重要な限界は,隣接する組織への毒性Niの放出だけでなく,X線可視性の不十分なレベルである。これらの限界は,TiNi基板上のTi Taベース表面合金の作製により打ち勝つことができ,高温SMAをTi-Ta合金はTiNi基板と潜在的に良好な機械的適合性を持つ魅力的な生体材料である。本研究では,この手法はTi_70Ta_30(at.%)薄膜のマグネトロン共析出とマイクロ秒低エネルギー,高電流電子ビーム(~2 μs, ~15 keV, ~2 J/cm~2)によるTiNi基板との液相混合の多重(N=20)変化により初めて実現した。表面SEM/EDS,AES,XRDと断面のHRTEM/EDS/SAED分析は,研究した材料のミクロ組織キャラクタリゼーションのために用いた。共蒸着膜のそれに近い組成を持つ~厚さ1μmのTi Taベース表面合金が形成されていたことが分かった,深さ方向に傾斜非晶質-ナノ結晶構造を持ついくつかのサブレイヤーから構成されている。ナノ結晶層はα′′(Ti Ta)マルテンサイトとβ(Ti Ta)-オーステナイト(bcc無秩序)のランダムに配向した結晶粒の本質的に構成されている。表面合金下,~厚さ1μmの中間帯を形成していた。多層主にランダムに配向したナノ結晶構造を有するおよびNiとTaの単調な深さ置換とTiNi基板への拡散転移により特性化した。研究材料の深さ方向に傾斜構造を添加物薄膜蒸着/パルス融解製造プロセスの特徴と関連している。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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その他の金属組織学 

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