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J-GLOBAL ID：201702235801154049   整理番号：17A0665168

単軸引張下のsiliceneシートの欠陥感度性能:機械的性質,電子構造及び破壊挙動【Powered by NICT】

Defect-sensitive performance of silicene sheets under uniaxial tension: mechanical properties, electronic structures and failure behavior

著者 (4件)： Ding Ning (Key Laboratory of Applied Technology of Sophisticated Analytical Instruments, Shandong Academy of Sciences, Jinan, PR China. [e-mail]) ,  Wang Huan ,  Chen Xiangfeng ,  Lawrence Wu Chi-Man
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 7  号： 17  ページ： 10306-10315  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェンのケイ素類似体として,シリセンはそのユニークな物理的および化学的性質のためにかなりの関心を集めている。先駆的研究はグラフェン状二次元材料における欠陥は,これらの材料の物理的性質を調整するためのツールと考えられていることを示した。本研究では,シリセンシートの機械的性質と破壊挙動に及ぼす欠陥の影響を分子力学と分子動力学法を用いて調べた。結果はシリセンシートの固有強度は,空孔の増加した線形密度,亀裂の幅の比,および結晶粒界の変曲角と共に減少することを示した。シリセンシートの弾性特性は,欠陥だけでなくそれらの波形構造によっても影響を受けた。欠陥を持つシリセンシートの破壊は,通常,Si-Si結合,欠陥端に位置していたから開始した。伸縮歪はシリセンシートの電子構造を調整することができた。本研究では,単軸引張下のsiliceneの欠陥敏感性能を示し,この材料の適用を評価し,拡張役立った。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 分子内力学 ,  *電子構造 ,  結晶粒界 ,  *一軸 ,  分子動力学 ,  *引張 ,  線形性 ,  グラフェン ,  二次元 ,  *機械的性質 ,  亀裂 ,  ケイ素
準シソーラス用語： 弾性特性 ,  シリセン ,  *破壊挙動 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機化合物の格子欠陥  (BK12050B) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (7件)： 単軸 ,  引張 ,  欠陥 ,  感度 ,  機械的性質 ,  電子構造 ,  破壊挙動