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J-GLOBAL ID：201702235880066433   整理番号：17A0634783

炭化ケイ素担持酸化バナジウムの作製とアンモニアによるNO除去へのその応用

Preparation of silicon carbide-supported vanadium oxide and its application of removing NO by ammonia

著者 (5件)： WANG Zi-Bo (Yangzhou Univ., Jiangsu, CHN) ,  XU Xu (Yangzhou Univ., Jiangsu, CHN) ,  BAI Shu-Li (Wuyi Univ., Guangdong, CHN) ,  GUAN Yu-Jiang (Taizhou Univ., Zhejiang, CHN) ,  JIANG Sheng-Tao (Taizhou Univ., Zhejiang, CHN)
資料名： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 123  号： 3  ページ： 163,1-8  発行年： 2017年03月 
JST資料番号： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： BET表面積33.93m²g^-1の炭化ケイ素(SiC)の細孔内に金属前駆体塩としてのNH₄VO₃水溶液を含浸させる方法でV₂O₅/SiC触媒を作製した。作製した試料がV₂O₅を含むことをまず確かめた。さらに,気相から吸着されたアンモニアとNOとが反応に参加し,選択的触媒還元(SCR)反応が起きた。その見かけの活性化エネルギーは38kJmol^-1であり,同条件での他のSCR触媒の値よりも顕著に低かった。V₂O₅/SiC触媒は,低温での高い効率と再利用可能性とにより,NH₃によるNOの除去に有利である。

シソーラス用語： 炭化ケイ素 ,  *酸化バナジウム ,  *担持触媒 ,  表面積 ,  *含浸 ,  アンモニア ,  *一酸化窒素 ,  吸着 ,  *接触還元 ,  選択性 ,  *排ガス処理 ,  触媒活性 ,  触媒 ,  再利用 ,  有害ガス
準シソーラス用語： *五酸化バナジウム ,  BET表面積 ,  *SCR【触媒】 ,  再利用可能触媒

分類 (3件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  不均一系触媒反応  (CB06100E) ,  有害ガス処理法  (SC04030H)

タイトルに関連する用語 (7件)： 炭化ケイ素 ,  担持 ,  酸化バナジウム ,  作製 ,  アンモニア ,  NO ,  応用