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J-GLOBAL ID：201702235999231173   整理番号：17A1175063

特異的ガンマ線光子エネルギーでの高分子材料の質量減衰係数の計算【Powered by NICT】

Computation of the mass attenuation coefficient of polymeric materials at specific gamma photon energies

著者 (2件)： Mirji Rajeshwari (Department of Physics, Karnatak Science College, Karnatak University, Dharwad 580001, Karnataka, India) ,  Lobo Blaise (Department of Physics, Karnatak Science College, Karnatak University, Dharwad 580001, Karnataka, India)
資料名： Radiation Physics and Chemistry  (Radiation Physics and Chemistry)
巻： 135  ページ： 32-44  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0627A  ISSN： 0969-806X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 十種の合成高分子材料,すなわち,ポリエチレン(PE),ポリスチレン(PS),ポリカーボネート(PC),ポリビニルアルコール(PVA),ポリ塩化ビニル(PVC),ポリエチレンテレフタレート(PET),ポリビニルピロリドン(PVP),ポリテトラフルオロエチレン(PTFE),ポリプロピレン(PP)とポリメタクリル酸メチル(PMMA)のガンマ線質量減衰係数を選択したγ線光子エネルギーで二次多項式方程式と対数補間公式を用いて計算した1332keVまでの14.4keVから出発してエネルギー範囲内である。二次多項式は,ここで考慮した全ての高分子材料のためのNISTデータと非常によく適合し,2000keVまでの300keVの範囲のガンマ光子エネルギーに対することに注意することが重要である。三次多項式フィッティングは低ガンマ光子エネルギー(10keV,200keVまで)に最も適している。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 内挿法 ,  *γ線 ,  多項式 ,  対数
準シソーラス用語： 合成高分子 ,  *高分子材料 ,  *光子エネルギー , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 質量減衰係数 ,  放射線遮蔽 ,  高分子材料 ,  2次多項式方程式 ,  対数補間公式

分類 (1件)： 放射線遮蔽  (MB04000R)

タイトルに関連する用語 (5件)： ガンマ線 ,  光子エネルギー ,  高分子材料 ,  質量減衰係数 ,  計算