文献

J-GLOBAL ID：201702236295263827   整理番号：17A0313514

パルス電着したNi-TiN薄膜の特性に及ぼすめっきパラメータの影響【Powered by NICT】

Effect of plating parameters on the properties of pulse electrodeposited Ni-TiN thin films

著者 (5件)： Xia Fafeng (School of Mechanical Science and Engineering, Northeast Petroleum University, Daqing 163318, PR China) ,  Xia Fafeng (Department of Mechanical Engineering, University of Washington, Seattle, WA 98195, USA) ,  Tian Jiyu (School of Mechanical Science and Engineering, Northeast Petroleum University, Daqing 163318, PR China) ,  Wang Weichih (Department of Mechanical Engineering, University of Washington, Seattle, WA 98195, USA) ,  He Yanan (School of Mechanical Science and Engineering, Northeast Petroleum University, Daqing 163318, PR China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 42  号： 11  ページ： 13268-13272  発行年： 2016年08月15日 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 微細構造,微小硬さ,およびNi-TiN薄膜の特性に及ぼすパルスめっきパラメータの影響を透過型電子顕微鏡(TEM),原子間力顕微鏡(A FM),X線回折(XRD),走査電子顕微鏡(SEM),および腐食と摩耗試験によって調べた。結果は4A/dm~2電流密度での電着により調製した984.7HVと8.69wt%の最適微小硬さとTiN含有量値を示すために,それぞれNi-TiN薄膜を示した。200Hzで得られた膜中のNiおよびTiNの平均粒径は127.8~48.5nmであった。多くの大きな細孔は200Hzと500Hzのパルス周波数で作製した膜中に認められるが,わずか数小さなピットは800Hzで蒸着したNi-TiN薄膜の表面上で観測された。20%デューティサイクルで作製した膜は最小重量損失を経験した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 走査電子顕微鏡 ,  *ニッケル ,  透過型電子顕微鏡 ,  摩耗試験 ,  原子間力顕微鏡 ,  重量損失 ,  電流密度 ,  微小硬さ ,  細孔 ,  X線回折 ,  *電着
準シソーラス用語： デューティサイクル ,  パルスめっき ,  *窒化チタン ,  *パルス電着 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 効果 ,  Ni-TiN薄膜 ,  めっきパラメータ ,  構造 ,  Property

分類 (6件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  電気めっき  (WC08023B) ,  無電解めっき  (WC08024S) ,  変態組織,加工組織  (WB01030N) ,  機械的性質  (WB02030U)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルス電着 ,  Ni ,  TiN薄膜 ,  めっき ,  パラメータ