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J-GLOBAL ID：201702236488506780   整理番号：17A0663646

酸化グラフェン基磁性複合材料における界面応力と電荷移動の共存

Coexistence of interfacial stress and charge transfer in graphene oxide-based magnetic nanocomposites

著者 (3件)： MISHRA Amodini (Jawaharlal Nehru Univ., New Delhi, IND) ,  SINGH Vikash Kumar (Solid State Physics Lab., New Delhi, IND) ,  MOHANTY Tanuja (Jawaharlal Nehru Univ., New Delhi, IND)
資料名： Journal of Materials Science  (Journal of Materials Science)
巻： 52  号： 13  ページ： 7677-7687  発行年： 2017年07月 
JST資料番号： B0722A  ISSN： 0022-2461  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水熱合成したコバルトフェライトと酸化グラフェンのナノ複合材料(CoFe₂O₄/GO)における圧縮応力と電荷移動過程の共存につき研究した。CoFe₂O₄磁性ナノ粒子がGOシートを修飾しており,高磁気飽和値と低保磁力値からこの複合材料の軟磁性の超常磁性挙動が確認された。また,Raman分光でのGOの特性Gピークにおける青方偏移により界面圧縮応力の存在が評価された。DとGピークのアップシフトとFWHMの上昇から,GOシートと分散ナノ粒子との間で電荷移動が明らかになった。これらの挙動には,複合材料における10²⁵/cm²のオーダーの点欠陥の存在が重要な役割を果たす。そしてフェルミ面の価電子バンドへのシフトをもたらすGOの表面電位の変化に関する電荷移動効果が定量化された。

シソーラス用語： 水熱合成 ,  コバルト化合物 ,  *フェライト ,  *グラフェン ,  酸化物 ,  *ナノ複合材料 ,  圧縮応力 ,  電荷移動 ,  ナノ粒子 ,  化学修飾 ,  磁気飽和 ,  保磁力 ,  *軟磁性材料 ,  超常磁性 ,  青方偏移 ,  FWHM ,  点欠陥 ,  Fermi面 ,  価電子バンド ,  表面電位
準シソーラス用語： コバルトフェライト ,  共存 ,  酸化グラフェン ,  磁性ナノ粒子

分類 (1件)： 磁性材料  (NA04040H)

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸化グラフェン ,  磁性複合材料 ,  界面応力 ,  電荷移動 ,  共存