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J-GLOBAL ID:201702236562281971   整理番号:17A1022053

ZnO:Alのp型Siヘテロ接合太陽電池における混合相ドープ層の可能性【Powered by NICT】

Potentials of mixed-phase doped layers in p-type Si heterojunction solar cells with ZnO:Al
著者 (9件):
資料名:
巻: 169  ページ: 113-121  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0513C  ISSN: 0927-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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前部と後部の両側にAlドープZnO(AZO)を持つp型Siヘテロ接合太陽電池の開発の進歩示し,議論し,混合相SiとSiO_xベースドープ層を用いた。p型非晶質シリコン(a Si:H)を用いた時,AZO後は有害であるが,p型微結晶シリコン(μc Si:H)は:可能にすることを実証した。(1)p layer/AZO Schottky障壁の抑制,(2)関連V_oc増加,および(3)キャリアの改良された輸送と抽出。とは対照的に,V_oc減少および増加した低注入再結合は,AZOと結合したn型μc-Si:Hで観測された,重篤な空乏効果を必要とする材料の低欠陥密度に起因すると考えられる。これらの問題はより欠陥の多い混合相n SiO_x,減少した寄生吸収損失を提供する追加を回避し,それゆえに最適エミッタ選択として確立されている。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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太陽電池 

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