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J-GLOBAL ID:201702236637401449   整理番号:17A0945891

シリカ超薄膜の遷移金属誘導結晶化

Transition Metal Induced Crystallization of Ultrathin Silica Films
著者 (4件):
資料名:
巻: 29  号:ページ: 931-934  発行年: 2017年02月14日 
JST資料番号: T0893A  ISSN: 0897-4756  CODEN: CMATEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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超高真空中の清浄Ru(0001)表面を1200Kで低圧O2に曝露して3O-(2×2)吸着層を調製し,SiまたはSi+Feを蒸着し,低速電子回折,走査型トンネル顕微鏡法および赤外反射吸収分光法を用いてFe-シリカ膜形成を観測してシリカの核形成-成長におけるFeの役割を検討した。観測結果に基づいてシリカ単独の場合(約1200K)よりはるかに低い温度(1050K)でFe-シリケート相が形成され,その周りに二層シリケート結晶が成長すると提案した。
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分類 (2件):
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固-気界面一般  ,  非金属化合物 
タイトルに関連する用語 (5件):
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