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J-GLOBAL ID：201702237121702689   整理番号：17A0665447

単結晶シリコンのナノインデンテーションにおける圧力誘起非晶質化【Powered by NICT】

Pressure-induced amorphization in the nanoindentation of single crystalline silicon

著者 (5件)： Han Jing (School of Mechanical and Electrical Engineering, China University of Mining and Technology, Xuzhou 221116, Jiangsu Province, PR China. [e-mail]) ,  Xu Song ,  Sun Jiapeng ,  Fang Liang ,  Zhu Hua
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 7  号： 3  ページ： 1357-1362  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： (100)配向シリコン表面上のナノインデンテーションの大規模分子動力学シミュレーションを用いて,単結晶シリコンの機械的挙動と相変態を調べるために実施した。直接結晶から非晶質への変換を,球状圧子を用いたナノインデンテーション中に観察された適用した圧痕歪あるいは荷重が十分に大きい限り,である。非晶質化は荷重押込ひずみ曲線の明確な不連続性を伴う,「ポップイン」として知られている。ここでは,直接格子歪による圧力誘起非晶質化過程を実証した。さらに,大きなせん断応力とそれに関連した静水圧の組合せは,この結晶から非晶質への変換を容易にする。構造特性,相分布および相変態経路も本研究で考察した。今回の結果は,単結晶シリコンの機械的挙動と相変態に関する新しい洞察を提供する。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ケイ素 ,  剪断応力 ,  *非晶質 ,  分子動力学 ,  不連続性 ,  静水圧 ,  圧子 ,  *ナノインデンテーション ,  圧痕 ,  *アモルファス化 ,  格子歪 ,  *結晶 ,  計算機シミュレーション
準シソーラス用語： ポップイン ,  力学的挙動 ,  分子動力学シミュレーション ,  *単結晶シリコン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 金属の格子欠陥  (BK12030F) ,  金属の機械的性質  (BL01022T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 単結晶シリコン ,  ナノインデンテーション ,  誘起 ,  非晶質化