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J-GLOBAL ID：201702237449241503   整理番号：17A1560602

ハフニウムのプラズマ電解酸化【Powered by NICT】

Plasma electrolytic oxidation of hafnium

著者 (3件)： Stojadinovic Stevan (University of Belgrade, Faculty of Physics, Studentski trg 12-16, 11000 Belgrade, Serbia) ,  Tadic Nenad (University of Belgrade, Faculty of Physics, Studentski trg 12-16, 11000 Belgrade, Serbia) ,  Vasilic Rastko (University of Belgrade, Faculty of Physics, Studentski trg 12-16, 11000 Belgrade, Serbia)
資料名： International Journal of Refractory Metals & Hard Materials  (International Journal of Refractory Metals & Hard Materials)
巻： 69  ページ： 153-157  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0059B  ISSN： 0263-4368  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ハフニウムのプラズマ電解酸化(PEO)の研究結果を示した。PEOマイクロ放電中のイオン化原子を発光分光法を用いて同定した。水素Balmer線H_βのスペクトル線形状解析は二種類の電子数密度2.510~約21m~ 3と1.310~22m~ 3のマイクロ放電の存在を示した。走査電子顕微鏡とX線回折を用いて,得られたPEO皮膜の表面形態と相組成を調べた。被覆は結晶と単斜晶HfO_2から構成されている。拡散反射分光法はHfO_2皮膜は200nmから400nmの範囲の広い吸収バンドを持つことを示した。HfO_2皮膜の光学バンドギャップは約5.4eVであり,吸収スペクトルから推定した。光ルミネセンス測定は,HfO_2被覆は,可視領域に幅広い発光バンド,480nm付近に最大値を持つことを示した。最高光ルミネセンスは,270nmの励起波長で得られた。光ルミネセンスの強度は,PEO時間と共に増加し,プロセス中に形成されたHfO_2皮膜中の酸素空格子点欠陥の増加に関係している。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 発光 ,  単斜晶系 ,  光ルミネセンス ,  走査電子顕微鏡 ,  *ハフニウム ,  相組成 ,  発光分光法 ,  吸収バンド ,  被覆 ,  スペクトル線形 ,  光学ギャップ ,  皮膜
準シソーラス用語： 表面形態 ,  マイクロ放電 ,  *プラズマ電解酸化 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ハフニウム ,  HfO_2 ,  プラズマ電解酸化 ,  塗料 ,  光発光分光法

分類 (1件)： 腐食  (WB03030B)

タイトルに関連する用語 (2件)： ハフニウム ,  プラズマ電解酸化