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J-GLOBAL ID：201702237799946573   整理番号：17A1480607

中性塩化物溶液中の銅の腐食抑制剤としての3インダゾール誘導体【Powered by NICT】

Three indazole derivatives as corrosion inhibitors of copper in a neutral chloride solution

著者 (7件)： Qiang Yujie (School of Chemistry and Chemical Engineering, Chongqing University, Chongqing 400044, China) ,  Qiang Yujie (School of chemical engineering, Sichuan University of Science and Engineering, Zigong 643000, China) ,  Zhang Shengtao (School of Chemistry and Chemical Engineering, Chongqing University, Chongqing 400044, China) ,  Zhang Shengtao (Material Corrosion and Protection Key Laboratory of Sichuan Province, Zigong 643000, China) ,  Yan Song (National Engineering Laboratory for Pipeline Safety, China University of Petroleum, Beijing 102249, China) ,  Zou Xuefeng (School of Chemistry and Chemical Engineering, Chongqing University, Chongqing 400044, China) ,  Chen Shijin (Bomin electronics Ltd, Meizhou 514021, China)
資料名： Corrosion Science  (Corrosion Science)
巻： 126  ページ： 295-304  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0135B  ISSN： 0010-938X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,三ハロゲノインダゾール化合物を,動電位分極測定,電気化学インピーダンス分光法,およびX線回折(XRD)分析を用いて3.0wt%NaCl溶液中の銅の腐食抑制を調べた。電気化学的結果は,これら全ての有機物の抑制能力4CIA>4BIA>4FIAを持つ混合型阻害剤,電界放出型走査電子顕微鏡(FE SEM)と原子間力顕微鏡(A FM)観察により確認されたことを明らかにした。それらの好ましい性能は銅上の抑制剤吸着膜の形成に起因した。さらに,理論的計算は研究した化合物の電子構造,銅表面上のそれらの最適吸着配置を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *銅 ,  原子間力顕微鏡 ,  X線回折 ,  吸着 ,  有機物 ,  *腐食抑制剤 ,  *抑制剤 ,  塩化ナトリウム ,  *腐食抑制作用 ,  電子構造 ,  電気化学
準シソーラス用語： 吸着膜 ,  電界放出型走査電子顕微鏡 ,  電気化学インピーダンス分光法 ,  動電位分極 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 銅 ,  腐食抑制剤 ,  A FM ,  EIS ,  モデリング研究

分類 (1件)： 防食  (WB03040M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 中性 ,  塩化物 ,  溶液 ,  銅 ,  腐食抑制剤 ,  インダゾール誘導体