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J-GLOBAL ID：201702237859066801   整理番号：17A1503389

高磁気インピーダンス効果の達成:熱アニーリングによるFeNi薄膜における集合組織の発達の制御【Powered by NICT】

Achieving high magneto-impedance effect: Controlling the evolution of textures in FeNi thin films by thermal annealing

著者 (12件)： Wang San-Sheng (School of Physics and Nuclear Energy Engineering, Beihang University, Beijing 100191, China) ,  Wang San-Sheng (Key Laboratory of Micro-nano Measurement, Manipulation and Physics, Beihang University, Beijing 100191, China) ,  Zhang Yu (School of Physics and Nuclear Energy Engineering, Beihang University, Beijing 100191, China) ,  Zhang Yu (Key Laboratory of Micro-nano Measurement, Manipulation and Physics, Beihang University, Beijing 100191, China) ,  Zhang Zhu-Li (School of Physics and Nuclear Energy Engineering, Beihang University, Beijing 100191, China) ,  Zhang Zhu-Li (Key Laboratory of Micro-nano Measurement, Manipulation and Physics, Beihang University, Beijing 100191, China) ,  Jiang Wen (School of Physics and Nuclear Energy Engineering, Beihang University, Beijing 100191, China) ,  Jiang Wen (Key Laboratory of Micro-nano Measurement, Manipulation and Physics, Beihang University, Beijing 100191, China) ,  Li Fang (School of Physics and Nuclear Energy Engineering, Beihang University, Beijing 100191, China) ,  Li Fang (Key Laboratory of Micro-nano Measurement, Manipulation and Physics, Beihang University, Beijing 100191, China) ,  Chen Zi-Yu (School of Physics and Nuclear Energy Engineering, Beihang University, Beijing 100191, China) ,  Chen Zi-Yu (Key Laboratory of Micro-nano Measurement, Manipulation and Physics, Beihang University, Beijing 100191, China)
資料名： Journal of Magnetism and Magnetic Materials  (Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 444  ページ： 291-296  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0644A  ISSN： 0304-8853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： FeNi薄膜の制御された成長と調整可能な磁気的性質を磁気インピーダンス(MI)効果を制御するために非常に重要である。本研究では,Ti層は厚いFeNi膜の膜厚変動による垂直磁気異方性を除去し,それによってそれらの軟磁性を保存するために導入した。さらに,温度異方性はFeNi/Tiベース多層膜の内外面外磁化挙動を決定し,これらの膜のMI特性を支配した。面外結晶構造の配向した(111)集合組織はアニーリング温度の上昇とともに増大した。これはFeNi膜の垂直異方性の形成を支持し,その軟磁性を減少させた。面内集合組織は焼鈍温度の上昇と共に支配的な(111)配向から(220)配向した。はFeNi薄膜の磁気的性質に関係しているように思われ,保磁力の最小値は集合組織の遷移の臨界温度で起こったためと考えられる。最大MI効果がこの臨界温度でFeNi多層膜で得られた。さらに,Ti層とFeNi層の間のより高い温度での相互拡散を考慮すべきである,パーマロイ薄膜の保磁力と飽和磁化は520°Cで急激に増加と減少Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *薄膜 ,  パーマロイ ,  結晶構造 ,  チタン ,  保磁力 ,  *集合組織 ,  飽和磁化 ,  膜厚 ,  臨界温度 ,  多層膜 ,  垂直磁気異方性 ,  相互拡散
準シソーラス用語： アニーリング温度 ,  軟磁性 ,  *磁気インピーダンス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 磁気インピーダンス効果 ,  FeNi ,  磁気異方性 ,  軟磁性 ,  アニーリング効果

分類 (2件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T) ,  磁性材料  (NA04040H)

タイトルに関連する用語 (5件)： 磁気インピーダンス効果 ,  熱アニーリング ,  薄膜 ,  集合組織 ,  発達