文献

J-GLOBAL ID：201702238148236427   整理番号：17A1229104

紫外線照射および溶媒への浸漬による異方性ポリスチレン粒子単分子層の作製

Fabrication of Anisotropic Polystyrene Particle Monolayers by UV Irradiation and Immersion into Solvent

著者 (4件)： ICHIKAWA Hiroto (Tokyo Univ. Sci.) ,  WANG Ke-Hsuan (Tokyo Univ. Sci.) ,  IMURA Yoshiro (Tokyo Univ. Sci.) ,  KAWAI Takeshi (Tokyo Univ. Sci.)
資料名： 日本油化学会年会講演要旨集  (Abstracts. Annual Meeting of the Japan Oil Chemists' Society)
巻： 56th  ページ： 309  発行年： 2017年09月11日 
JST資料番号： L0847A  ISSN： 1348-6764  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ポリスチレン ,  *粒子 ,  異方性 ,  *単分子層 ,  紫外線照射 ,  浸漬 ,  有機溶媒 ,  モルフォロジー ,  凸形 ,  高分子薄膜

分類 (3件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  成形工程とその装置一般  (YH04030C)

タイトルに関連する用語 (7件)： 紫外線照射 ,  溶媒 ,  浸漬 ,  異方性 ,  ポリスチレン粒子 ,  単分子層 ,  作製