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J-GLOBAL ID：201702238200998666   整理番号：17A0514787

4-HPPD阻害型除草剤に感受性を呈する新規需要米品種の漏生籾を制御する除草剤体系

著者 (10件)： 村田和優 (富山県農林水産総合技術セ) ,  山崎明彦 (エス・ディー・エスバイオテック) ,  加藤浩 (農研機構 次世代作物開発研究セ) ,  前田英郎 (農研機構 中央農業研究セ) ,  黒木慎 (農研機構 次世代作物開発研究セ) ,  関野景介 (エス・ディー・エスバイオテック) ,  山田祐司 (エス・ディー・エスバイオテック) ,  川田元滋 (農研機構) ,  戸澤譲 (埼玉大 大学院理工学研究科) ,  大島正弘 (農研機構)
資料名： 日本作物学会講演会要旨集  (Abstracts of the Meeting of the CSSJ)
巻： 243rd  ページ： 30  発行年： 2017年03月29日 
JST資料番号： L1755A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *イネ ,  籾 ,  *除草剤 ,  薬剤感受性 ,  雑草 ,  *雑草防除
準シソーラス用語： *新規需要米 ,  漏生籾

分類 (4件)： 雑草による植物被害  (FC04062J) ,  稲作  (FC03020C) ,  化学的防除  (FC05050X) ,  雑草に対する農薬  (FB06030F)

物質索引 (3件)： テフリルトリオン ,  メソトリオン ,  ベンゾビシクロン

タイトルに関連する用語 (7件)： 阻害 ,  除草剤 ,  感受性 ,  需要 ,  品種 ,  籾 ,  体系