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J-GLOBAL ID：201702238441374071   整理番号：17A0987188

アニーリングによる結晶性高分子膜の形態学的変化:基板およびheating/cooling速度依存性表面粗さ【Powered by NICT】

Morphological change of crystalline polymer films by annealing: substrate- and heating/cooling-rate-dependent surface roughness

著者 (5件)： Uto Yuki (Institute of Advanced Energy, Kyoto University, Gokasho, Uji, Kyoto, 611-0011, Japan) ,  Mizobata Keisuke (Institute of Advanced Energy, Kyoto University, Gokasho, Uji, Kyoto, 611-0011, Japan) ,  Maurya Sandeep Kumar (Institute of Advanced Energy, Kyoto University, Gokasho, Uji, Kyoto, 611-0011, Japan) ,  Akiyama Tsuyoshi (Department of Materials Science, The University of Shiga Prefecture, Hikone, Shiga, 522-8533, Japan) ,  Nakajima Takashi (Institute of Advanced Energy, Kyoto University, Gokasho, Uji, Kyoto, 611-0011, Japan)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 49  号： 7  ページ： 577-583  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子間力顕微鏡,X線回折,およびFourier変換赤外分光法を用いてアニーリングによる結晶性高分子膜の形態変化を調べた。典型的な試料として,鋳造法により作製した高密度および低密度ポリエチレン膜を採用した。135°C4時間のアニーリング後,原子間力顕微鏡によるポリエチレン膜の表面粗さは有意に増加し,X線回折によって結晶サイズもいくつかの増加を示したが,Fourier変換赤外分光スペクトルは変化を示さない。これは焼鈍中の再結晶による結晶構造の成長の結果として説明できた。より興味深いことに,著者らは,基板の選択と焼なましのための加熱/冷却速度は膜の表面粗さに大きく影響することを見出した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 低密度ポリエチレン ,  *モルフォロジー ,  再結晶 ,  *形態 ,  *焼なまし ,  ポリエチレン ,  *速度依存性 ,  結晶構造 ,  鋳造 ,  *結晶度 ,  *結晶 ,  原子間力顕微鏡 ,  冷却速度 ,  *高分子膜 ,  X線回折

著者キーワード (3件)： 高分子膜 ,  アニーリング ,  表面形態

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (6件)： アニーリング ,  結晶性 ,  高分子膜 ,  形態学 ,  速度依存性 ,  表面粗さ