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J-GLOBAL ID：201702238441628761   整理番号：17A0991288

アブレーションプルームのフッ化アルゴン(ArF)レーザ励起原子蛍光を用いた酸化インジウムスズ膜の分析

Analysis of Indium Tin Oxide Film Using Argon Fluroide (ArF) Laser-Excited Atomic Fluorescence of Ablated Plumes

著者 (2件)： HO Sut Kam (Univ. Macau, Macao, CHN) ,  GARCIA Dario Machado (Univ. Macau, Macao, CHN)
資料名： Applied Spectroscopy  (Applied Spectroscopy)
巻： 71  号： 4  ページ： 735-743  発行年： 2017年04月 
JST資料番号： A0429A  ISSN： 0003-7028  CODEN： APSPA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 波長193nmにおける二パルスレーザ励起原子蛍光(LEAF)法によって,PET基板(厚さ200μm,PET=ポリエチレンテレフタレート)上のITO膜(厚さ120nm,ITO=酸化インジウムスズ)を分析した。ArFレーザフルエンスの最適化,二つのパルス間の時間遅延ならびに試料破壊の最小化を図った。SnおよびInの検出限界はそれぞれ0.10および0.43%であり,本方法は高い分析性能を示した。

シソーラス用語： *原子蛍光分析 ,  *酸化インジウムスズ ,  *酸化膜 ,  薄膜 ,  ポリエチレンテレフタレート ,  アルゴン化合物 ,  フッ化物
準シソーラス用語： フッ化アルゴン ,  *レーザ励起原子蛍光分析

分類 (2件)： 無機化合物の物理分析  (CC03024P) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： フッ化アルゴン ,  ARF ,  レーザ励起 ,  酸化インジウムスズ ,  分析