チオエーテル官能化オクタシルセスキオキサンを用いた配位重合体の集合:3D POSSネットワーク内での(CuX)4nクラスタ(X=Br,I)の発生【Powered by NICT】

Raghuvanshi Abhinav; Strohmann Carsten; Tissot Jean-Baptiste; Clement Sebastien; Mehdi Ahmad; Richeter Sebastien; Viau Lydie; Knorr Michael

文献

J-GLOBAL ID：201702238450690864 整理番号：17A1763473

チオエーテル官能化オクタシルセスキオキサンを用いた配位重合体の集合:3D POSSネットワーク内での(CuX)4nクラスタ(X=Br,I)の発生【Powered by NICT】

Assembly of Coordination Polymers Using Thioether-Functionalized Octasilsesquioxanes: Occurrence of (CuX)_n Clusters (X=Br and I) within 3D-POSS Networks

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資料名：
巻： 23 号： 65 ページ： 16479-16483 発行年： 2017年
JST資料番号： W0744A ISSN： 0947-6539 CODEN： CEUJED 資料種別：逐次刊行物 (A)
発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

初めて,POSS系配位高分子(CP)は構造的に特性化した。これらのCPsは温和な条件下でCu I塩とチオエーテル官能化ポリシルセスキオキサンの自己集合反応を経由して高収率で得られた。単結晶分析は,接続ノードとして異なる二次構築単位(SBU)を組み込んだ3Dネットワークの形成を明らかにした。-SAr機能性の性質は,クラスタ核性,すなわち蝶形Cu_2X_2または閉じたクバン型Cu_4I_4コアの微調整を可能にした。そのようにして,得られたハイブリッド材料は,無機POSSコアから生じる高い熱安定性の組合せと共にクバンクラスタコアによって与えられた興味あるルミネセンス特性を示した。さらに,チャンネルの発生は,CPを含むCu_4I_4クラスタの場合に結晶学的に示されている。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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