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J-GLOBAL ID：201702239278081213   整理番号：17A1767467

表面増強Raman散乱用の低真空スパッタリングによる多孔質ナノ構造

Porous Nanostructures by Low Vacuum Sputtering for Surface Enhanced Raman Scattering

著者 (7件)： YUN Sungho (Kyungpook National Univ., Daegu, KOR) ,  YUN Sungho (Kwang-Lim Precision, Inc., Daegu, KOR) ,  HONG Yoochan (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  YANG Yaemoon (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  LEE Dongin (Yeungnam Univ., Gyeongbuk, KOR) ,  KIM Bonghwan (Catholic Univ. Daegu, Gyoengbuk, KOR) ,  CHO Chanseob (Kyungpook National Univ., Daegu, KOR)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 17  号： 11  ページ： 8528-8533  発行年： 2017年11月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： クラスタ源を装荷したスパッタリング装置を用いて,Si基板上にAgナノ多孔質金属構造を形成する方法を設計し,SERS基板の適用性を試験した。様々な条件下でSi表面上にAgナノ多孔質構造が均一に形成された。作動圧力を10mTorrから高めると金属クラスタと結晶サイズの間のギャップが増加し,多孔性の高い金属構造が形成された。クラスタ源の温度を上げると,堆積速度と気孔率が低下したが,結晶粒度は12.5nmで一定であった。作製したAgナノポーラス構造試料のRaman応答関数は,ローダミン6Gに対する最大ピーク値を1514/cmに示した。作動圧力を30mTorrのときの増強因子は1.92×10⁶で,SERS基板に適することを実証した。

シソーラス用語： *表面増強Raman散乱 ,  スパッタリング ,  ナノ構造 ,  ナノ材料 ,  *多孔性 ,  金属クラスタ ,  結晶粒度 ,  *Ramanスペクトル ,  銀 ,  電子顕微鏡観察
準シソーラス用語： *ナノ多孔質 ,  *ナノ多孔質体

分類 (1件)： 赤外・Raman・Rayleighスペクトル一般(分子)  (BH06031K)

タイトルに関連する用語 (5件)： 表面増強Raman散乱 ,  真空 ,  スパッタリング ,  多孔質 ,  ナノ構造