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J-GLOBAL ID：201702239284407289   整理番号：17A0468693

クリーンルームのさまざまな展開 2)旋回流誘引型成層空調システム:最先端半導体工場への展開「SWIT」による次世代クリーンルームの確立

著者 (2件)： 松岡慎 (高砂熱学工業) ,  守屋寛之 (高砂熱学工業)
資料名： クリーンテクノロジー  (Clean Technology)
巻： 27  号： 4  ページ： 1-5  発行年： 2017年04月10日 
JST資料番号： L1138A  ISSN： 0917-1819  CODEN： KTEKER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： クリンルームの技術的特徴はファンタワーからファンフィルタ方式に変化し,又,ミニエンバイロンメント方式の推進で温湿度や清浄度仕様の緩和から,大空間クリンルームの更なる効率的空調・清浄度管理が求められている。高砂熱学(株)ではこれに対応できる「旋回流誘引型温度成層」方式の空調システム『TCR-SWIT』を提案したので紹介した。SWITによる温度成層空調,旋回流を利用するメリット,SWITによるクリンルーム空調を説明をし,クリンルームの導入事例として,三重富士通セミコンダクタ(株)のケースを示した。

シソーラス用語： 旋回流 ,  生産工場 ,  気象要素 ,  清浄度 ,  *空調システム ,  *成層 ,  事例研究 ,  半導体工場 ,  温湿度 ,  *温度成層
準シソーラス用語： 誘引 ,  *成層空調システム

分類 (1件)： 空気浄化  (PC02060X)

タイトルに関連する用語 (9件)： クリーンルーム ,  展開 ,  旋回流 ,  誘引型 ,  成層 ,  空調システム ,  最先端 ,  半導体工場 ,  次世代