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J-GLOBAL ID:201702239478806954   整理番号:17A0908234

反応性スパッタしたナノ結晶Ti Al Ni-N薄膜の微細構造と機械的性質【Powered by NICT】

Microstructure and mechanical properties of reactive sputtered nanocrystalline Ti-Al-Ni-N thin films
著者 (7件):
資料名:
巻: 320  ページ: 472-477  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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種々のNi含有量のナノ結晶Ti Al Ni N薄膜は,他の後のTi,AlとNiターゲットをスパッタリング600°CでN_2ガス雰囲気中と膜の蒸着時におけるTi,AlとNi原子間の相互拡散によって調製した。堆積した膜の微細構造と機械的特性を,電界放出走査電子顕微鏡,原子間力顕微鏡,X線回折,X線光電子分光法およびナノインデンテーションにより調べた。堆積した膜はB1-NaCl構造に属し,それらの優先配向は,Ni含有量に依存しない(200)面とNi含有量の減少した格子定数,固溶体Ti Al Ni膜は蒸着中の小さなNi原子によるTi又は/及びAl原子置換により形成されたことを示した,結晶Niも高Ni含有量により形成された。Ti Al Ni Nナノ複合材料膜は滑らかで,それらの平均粒径は約8nm,Ti-Al-N膜のそれよりも小さかった。Ni含有量が0から17.42at.%に増加するとTi Al Ni N膜のナノ硬さと弾性率は33.0から12.2GPaにそれぞれ332.0から210.9GPaまで減少した。しかし,堆積した膜の損傷許容性は大きく増加したNiを添加した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (3件):
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金属材料へのセラミック被覆  ,  機械的性質  ,  その他の無機化合物の薄膜 

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