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J-GLOBAL ID:201702239828388869   整理番号:17A1546299

低エネルギーGaイオン注入により誘起されたγLiAlO_2におけるRaman効果【Powered by NICT】

The Raman effects in γ-LiAlO2 induced by low-energy Ga ion implantation
著者 (6件):
資料名:
巻: 409  ページ: 72-75  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0899A  ISSN: 0168-583X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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将来の核融合炉で有望な固体増殖材料として知られる,正方晶γLiAlO_2結晶は,その照射効果のために多くの注目を集めている。本研究では,イオン注入したγLiAlO_2におけるRaman効果に焦点を当てた。3080および150keVのGaイオンは1×10~14ions/cm~2または1×10~15ions/cm~2のフルエンスでzカットγLiAlO_2試料表面に移植した。平均イオン飛程は230から910Åまで変化した。Ramanスペクトルは,移植前と後の注入した表面から収集した。明白な変化はRamanモード強度に反映され,最も検出モードの異常増加であった。Ramanモードの帰属によると,Al-O振動はLi-Al-O振動よりも大幅に強化され,少ない増進効果を得られたLiO_4 AlO_4振動。,Gaイオンによる粗さ,結晶不規則性と影響の因子を含む,Raman強度の増分を説明しようと試みた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (4件):
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その他の物質の放射線による構造と物性の変化  ,  半導体薄膜  ,  半導体の赤外スペクトル及びRaman散乱・Ramanスペクトル  ,  半導体の放射線による構造と物性の変化 
タイトルに関連する用語 (4件):
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