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J-GLOBAL ID:201702239952266747   整理番号:17A1625557

溶射蒸着法により成長させたZnO:Ni薄膜の合成と特性評価【Powered by NICT】

Synthesis and characterization of ZnO:Ni thin films grown by spray-deposition
著者 (4件):
資料名:
巻: 43  号: 18  ページ: 16593-16599  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,異なる割合(0 10%)でニッケルをドープした酸化亜鉛薄膜(ZnO:Ni)を化学スプレー法を用いてガラス基板上に堆積した。ZnO:Ni薄膜の構造的および光学的性質に及ぼすNi濃度の効果を調べた。膜の結晶構造と光学的性質に及ぼすNi含有量の効果をX線回折(XRD),走査電子顕微鏡(SEM),UV-vis,光ルミネセンススペクトル,およびRaman分光法によって系統的に調べた。XRD解析は,ドープしないおよびNiドープZnO膜の両方は,基板に垂直な[002]方向に沿った結晶の優先配向した六方晶構造で結晶化したことを示した。XRD分析は,膜は,c軸に平行な(002)方向に選択的に配向し微結晶とウルツ鉱型相で結晶化したことを示した。SEM研究はナノ結晶粒子から構成されている事NiZnOの表面を明らかにした。SEM画像は,[Ni]/[Zn]比が増加すると,平均サイズが減少する球形の結晶子からなる比較的密な表面構造を示した。光学的研究は,全ての膜は高度に透明であることを示した。バンドギャップは7at%Niドーピングレベルまで減少したが,バンドギャップは10at%Niドーピングレベル後に増加した。全ての薄膜は可視領域で約80%以上の透過率を示した。無ドープおよびNiドープZnO薄膜のPLスペクトルは,376nm,389nm,494nm,および515nmでいくつかの顕著なピークを示した。得られた結果は,膜の構造と光学的性質はドーピングレベルにより大きく影響されたことを明らかにした。これらの膜がエレクトロクロミックおよび光起電素子における導電層として有用である。最後に,全ての結果はニッケルドーピング濃度の観点から考察した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化物薄膜  ,  セラミック・磁器の性質 

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