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J-GLOBAL ID：201702240010841323   整理番号：17A0598865

高温でのシリカおよびケイ酸塩表面に対する3-アミノプロピルシランカップリング剤の加水安定性

Hydrolytic Stability of 3-Aminopropylsilane Coupling Agent on Silica and Silicate Surfaces at Elevated Temperatures

著者 (10件)： OKHRIMENKO Denis V. (Univ. Copenhagen, Copenhagen, DNK) ,  BUDI Akin (Univ. Copenhagen, Copenhagen, DNK) ,  CECCATO Marcel (Univ. Copenhagen, Copenhagen, DNK) ,  CARDENAS Marite (Univ. Copenhagen, Copenhagen, DNK) ,  CARDENAS Marite (Malmoe Univ., Malmoe, SWE) ,  JOHANSSON Dorte B. (ROCKWOOL International A/S, Hedehusene, DNK) ,  LYBYE Dorthe (ROCKWOOL International A/S, Hedehusene, DNK) ,  BECHGAARD Klaus (Univ. Copenhagen, Copenhagen, DNK) ,  ANDERSSON Martin P. (Univ. Copenhagen, Copenhagen, DNK) ,  STIPP Susan L. S. (Univ. Copenhagen, Copenhagen, DNK)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 9  号： 9  ページ： 8344-8353  発行年： 2017年03月08日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 3-アミノプロピルシラン(APS)カップリング剤は,工業,生体材料,医療応用に広く用いられているが,高温高湿な環境に曝されると,APS層が分解し,結合効率の減少を引き起こす。したがって,無機表面におけるAPSの化学状態と安定性を解明する必要がある。本研究において,X線光電子分光,原子間力顕微鏡,流動電位,接触角,分光エリプソメトリなどの評価技法を使って,シリカ上のAPSの接着を調べ,それをシリケート酸塩上のものと比較した。同時に,密度汎関数計算も行った。その結果,APS層の形成は,蒸着に用いる基板と溶媒の選択に依存することがわかった。トルエン中のシリカ表面は,不安定な多層構造を取る一方,水溶液中では,APS層はより安定で薄くなる傾向がある。APSの厚さが増すほど,シリカ上よりも溶融繊維上でより安定になる。

シソーラス用語： *二酸化ケイ素 ,  *ケイ酸塩 ,  *カップリング剤 ,  *水和反応 ,  *安定性 ,  X線光電子分光法 ,  原子間力顕微鏡 ,  流動電位 ,  接触角 ,  偏光解析法 ,  密度汎関数法
準シソーラス用語： シリカ ,  加水反応 ,  化学安定性

分類 (1件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

物質索引 (1件)： 3-アミノプロピルシラン

タイトルに関連する用語 (5件)： シリカ ,  ケイ酸塩 ,  3-アミノプロピルシラン ,  カップリング剤 ,  安定性