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J-GLOBAL ID:201702240158820139   整理番号:17A0749386

バルク中のBiドーピングによる制御されたPb_1-xSn_xTe(111)トポロジカル結晶絶縁体膜における巨大Rashba分裂【Powered by NICT】

Giant Rashba Splitting in Pb1- xSnxTe (111) Topological Crystalline Insulator Films Controlled by Bi Doping in the Bulk
著者 (16件):
資料名:
巻: 29  号:ページ: ROMBUNNO.201604185  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0001A  ISSN: 0935-9648  CODEN: ADVMEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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鉛-すずカルコゲナイドトポロジカル結晶絶縁体のトポロジー的性質を温度と組成により広く調整可能である。エピタキシャルPb_1-xSn_xTe(111)膜のバルクBiドーピングはドーピングレベルによって調整できることを表面での巨大Rashba分裂を誘起することを示した。緊密結合計算は,表面でのトラップ状態によるFermi準位ピン止めとしてそれらの起源を同定した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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原子・分子のクラスタ  ,  太陽電池 
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