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J-GLOBAL ID：201702240165165030   整理番号：17A1194780

光触媒BiVO₄における光励起キャリア減衰機構の理論的解析:電子,正孔減衰の相関

著者 (8件)： 鈴木洋一 (産業技術総合研) ,  DHARMAPURA Murthy (産業技術総合研) ,  松崎弘幸 (産業技術総合研) ,  古部昭広 (徳島大) ,  WANG Qian (東大) ,  久富隆史 (東大) ,  堂免一成 (東大) ,  関和彦 (産業技術総合研)
資料名： 電気化学秋季大会講演要旨集(CD-ROM)
巻： 2017  ページ： ROMBUNNO.1L10  発行年： 2017年08月28日 
JST資料番号： X0038B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 過渡吸収スペクトル ,  *光触媒 ,  スペクトロスコピー ,  *動力学 ,  光触媒反応 ,  接触分解 ,  電子正孔対 ,  キャリア再結合 ,  吸収 ,  正孔 ,  電子 ,  バナジウム酸塩 ,  ビスマス化合物 ,  光
準シソーラス用語： 過渡吸収分光法 ,  *キャリアダイナミックス ,  水分解 ,  光触媒分解 ,  電子-正孔再結合 ,  過渡吸収 ,  バナジウム酸ビスマス ,  励起光

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (10件)： 光触媒 ,  BiVO4 ,  光励起 ,  キャリア ,  減衰 ,  理論 ,  解析 ,  電子 ,  正孔 ,  相関