文献

J-GLOBAL ID：201702240285011415   整理番号：17A0987957

UV/H_2O_2高度酸化プロセスを用いたNO除去の実験的研究と数学モデリング【Powered by NICT】

Experimental Study and Mathematical Modeling of NO Removal Using the UV/H₂O₂ Advanced Oxidation Process

著者 (3件)： Shahrestani Masoumeh Moheb (University of Isfahan, College of Engineering, Chemical Engineering Department, Hezar jarib street, 81746-73441, Isfahan, Iran) ,  Rahimi Amir (University of Isfahan, College of Engineering, Chemical Engineering Department, Hezar jarib street, 81746-73441, Isfahan, Iran) ,  Momeni Mehdi (University of Isfahan, College of Engineering, Surveying Engineering Department, Hezar jarib street, 81746-73441, Isfahan, Iran)
資料名： Chemical Engineering & Technology  (Chemical Engineering & Technology)
巻： 40  号： 6  ページ： 1149-1157  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0907C  ISSN： 0930-7516  CODEN： CETEER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： UV/H_2O_2プロセスによる除去に関する実験的研究を,半連続気ほう塔反応器で実施されず,除去効率に及ぼすNO初期濃度とガス流量を含むいくつかの操作パラメータの影響を調べた。UV光を適用効率を有意に増加させた。定常状態除去効率は低いガス流速で高いことが分かった。物質移動計算,モデリング手順の重要因子としての気泡径は気泡写真と画像処理技術を用いて種々のガス流速で決定した。ここで調べた流速の範囲では,ガス流量が気泡径に有意な影響を及ぼさなかった。数学モデルはNO除去プロセスを記述するために開発した。モデル予測を既存の実験データと比較して,データの良好な一致を確認した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 気泡塔 ,  *モデリング ,  数学モデル ,  反応器 ,  気泡径 ,  流速 ,  気泡 ,  紫外線 ,  物質移動 ,  画像処理
準シソーラス用語： 定常状態 ,  利用効率 ,  ガス流量 ,  除去効率 ,  *実験研究 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 画像処理 ,  数学モデル ,  除去 ,  UV/H2O2プロセス

分類 (1件)： 装置内の流れ  (XD01010Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高度 ,  酸化プロセス ,  NO ,  実験的研究 ,  数学モデリング