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J-GLOBAL ID:201702240742180313   整理番号:17A1857273

アニーリングがGa2O3薄膜の特性に及ぼす影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of Annealing on Ga2O3 Film
著者 (5件):
資料名:
巻: 38  号:ページ: 606-610  発行年: 2017年 
JST資料番号: W1380A  ISSN: 1000-7032  CODEN: FAXUEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
抄録/ポイント:
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高品質のβ-Ga2O3薄膜を金属有機物化学蒸着法により成長させ,試料を真空,酸素及び窒素雰囲気中で30分間アニールし,Ga2O3薄膜の特性に及ぼす種々のアニーリングプロセスの影響を調べた。X線回折,光ルミネセンススペクトル,紫外透過スペクトル,原子間力顕微鏡により,アニールした膜を調べた。結果は,膜の結晶品質と表面形態を最適化し,膜の光学的性質を効果的に改善することを示した。その中で、酸素焼なまし後のサンプルは可視光バンドにおける透過率が83%に達し、吸収端が更に急峻になることが分かった。表面粗さは0.564nmに減少し,その表面はより平坦であった。これらの結果により、酸素焼なましが結晶品質の向上に対して最も顕著であることを示した。窒素と真空でアニールしたサンプルの光ルミネセンススペクトルには365nmの発光ピークがあり、これは大量の酸素空孔の存在によるものである。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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酸化物薄膜  ,  光物性一般 
タイトルに関連する用語 (3件):
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