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J-GLOBAL ID：201702241020536956   整理番号：17A1176115

塩酸aureomycineの吸着とそれに続く光触媒分解のための化学的に修飾したグラフェン酸化物/ナノヒドロキシアパタイト複合材料の作製【Powered by NICT】

Fabrication of chemically modified graphene oxide/nano hydroxyapatite composite for adsorption and subsequent photocatalytic degradation of aureomycine hydrochloride

著者 (3件)： Anirudhan T.S. (Department of Chemistry, School of Physical and Mathematical Sciences, University of Kerala, Kariavattom, Trivandrum 695 581, India) ,  Deepa J.R. (Department of Chemistry, School of Physical and Mathematical Sciences, University of Kerala, Kariavattom, Trivandrum 695 581, India) ,  Nair Anoop S. (Department of Chemistry, School of Physical and Mathematical Sciences, University of Kerala, Kariavattom, Trivandrum 695 581, India)
資料名： Journal of Industrial and Engineering Chemistry  (Journal of Industrial and Engineering Chemistry)
巻： 47  ページ： 415-430  発行年： 2017年 
JST資料番号： W3170A  ISSN： 1226-086X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学修飾グラフェンオキシド(CMGO)/nanohydroxyアパタイト(nHA)複合材料はtriethyltetramine(TETA)による酸化グラフェン(GO)の容易な化学修飾により合成した。GOのバンドギャップは表面改質とnHAとの複合体生成による可視光下での光分解のための調整することができた。擬2次速度モデルが薬物吸着関連が分解過程を最も良く適合したモデルとしてSips等温式と一次反応速度動力学に従った。家禽場と動物民家に近い汚染地域から採取した廃水試料を用いて試験したAMの分解における光触媒の可能性。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光分解 ,  表面改質 ,  *塩酸 ,  一次反応 ,  廃水 ,  *吸着 ,  *燐灰石 ,  可視光 ,  *複合材料 ,  *光触媒 ,  バンドギャップ
準シソーラス用語： 速度モデル ,  *ナノヒドロキシアパタイト ,  *酸化グラフェン ,  *光触媒分解 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 吸着等温線 ,  塩酸Aureomycine ,  酸化グラフェン ,  Nanohydroxyりん灰石

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  光化学反応  (CB08020F)

タイトルに関連する用語 (9件)： 塩酸 ,  吸着 ,  光触媒分解 ,  化学 ,  修飾 ,  グラフェン酸化物 ,  ナノヒドロキシアパタイト ,  複合材料 ,  作製