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J-GLOBAL ID：201702241218472203   整理番号：17A1448902

強磁性薄膜における曲率に誘起された異方性のエンジニアリング

Engineering Curvature-Induced Anisotropy in Thin Ferromagnetic Films

著者 (5件)： TRETIAKOV Oleg A. (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  TRETIAKOV Oleg A. (Far Eastern Federal Univ., Vladivostok, RUS) ,  MORINI Massimiliano (Universita di Parma, Parma, ITA) ,  VASYLKEVYCH Sergiy (Univ. Bristol, Bristol, GBR) ,  SLASTIKOV Valeriy (Univ. Bristol, Bristol, GBR)
資料名： Physical Review Letters  (Physical Review Letters)
巻： 119  号： 7  ページ： 077203.1-077203.5  発行年： 2017年08月18日 
JST資料番号： H0070A  ISSN： 0031-9007  CODEN： PRLTAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 磁性薄膜 ,  曲率 ,  磁化 ,  表面性状 ,  *垂直磁気異方性 ,  表面構造 ,  表面粗さ ,  双極子相互作用 ,  *強磁性薄膜 ,  構造

分類 (1件)： 磁気異方性・磁気機械効果一般  (BM06101B)

タイトルに関連する用語 (5件)： 強磁性薄膜 ,  曲率 ,  誘起 ,  異方性 ,  エンジニアリング