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J-GLOBAL ID:201702241283877154   整理番号:17A1589575

SiO2マイクロディスクの湿式腐食プロセスの研究【JST・京大機械翻訳】

Research on Silica Microdisk by Wet-etching
著者 (7件):
資料名:
巻: 56  号:ページ: 410-415  発行年: 2017年 
JST資料番号: W1452A  ISSN: 0438-0479  CODEN: HMHHAF  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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SiO2バックリングモード(WGM)の光学共振器は,Q値が高く,モード体積が小さく,製作が簡単であるという利点がある。. . WGMの光学共振器には,多くの利点がある。それは,量子電気力学,バイオセンサ,フィルタ,非線形光学などの分野において,非常に有望な応用展望を有する。熱酸化成長SiO2,フォトリソグラフィー,マグネトロンスパッタリングにより成長させたCrマスク,HF緩衝液によるSiO2,KOH溶液の湿式エッチングによるSiの除去,Crの除去などのプロセスにより,異なるサイズのSiO2マイクロディスクを得た。40と60μm。原子間力顕微鏡を用いて,マイクロディスクの表面粗さを特性化し,平方根の表面粗さは0.469nmであった。任意の表面処理またはレーザー処理を行わない場合に、連続波長可変レーザーを利用し、光ファイバテーパとマイクロディスクを結合することにより、透過スペクトル測定により、マイクロディスクの自由スペクトル範囲(free spectrum range,FSR)はλFSR=9.6 nmとなる。Q値は約1×104であった。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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