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J-GLOBAL ID：201702241523905426   整理番号：17A1449668

大気圧低温プラズマにより作製したAZO/ZnO膜に対する核生成時スイープ速度の影響

著者 (3件)： 岡田修一郎 (香川高専) ,  須崎嘉文 (香川大) ,  鹿間共一 (香川高専)
資料名： 電気関係学会四国支部連合大会講演論文集(CD-ROM)  (Shikoku-Section Joint Convention Record of the Institutes of Electrical and Related Engineers (CD-ROM))
巻： 2017  ページ： ROMBUNNO.11-15  発行年： 2017年09月16日 
JST資料番号： L1738B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *大気プラズマ ,  *酸化亜鉛 ,  *薄膜 ,  *核形成 ,  *速度 ,  電気抵抗率 ,  膜厚 ,  *大気圧低温プラズマ ,  *掃引速度 ,  *ZnOフィルム
準シソーラス用語： *AZO ,  *ZnO薄膜

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (6件)： 大気圧低温プラズマ ,  作製 ,  Azo ,  ZnO ,  核生成 ,  スイープ