文献

J-GLOBAL ID：201702241740496780   整理番号：17A0703279

有核触媒による超高アスペクト比機能性ナノ多孔質シリコン【Powered by NICT】

Ultra-high aspect ratio functional nanoporous silicon via nucleated catalysts

著者 (3件)： Patil Jatin J. (Department of Chemical Engineering, University of Waterloo, ON, Canada N2L 3G1) ,  Smith Brendan D. ,  Grossman Jeffrey C.
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 7  号： 19  ページ： 11537-11542  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ多孔質シリコン(NPSi)は電池アノード,光触媒,熱電材料,およびろ過膜のような応用の範囲でその可能性のために最近の関心を集めている。しかし,ナノメートルスケールの高アスペクト比の多孔質構造の安価で拡張可能な製造は,陽極酸化またはフォトリソグラフィーのような技術に使用される複雑で高価な装置の現在の方法の信頼に起因して困難である。ここでは,Si表面,金属支援化学エッチング(MACE)による上にスパッタした貴金属の核形成を活用することによりサブ10nmの細孔サイズとアスペクト比の高い400:1のNPSiを生産する方法を報告した。技術は本質的にスケーラブルな方法でNPSiを生成することができる。試料は基板内で数μm深さで多孔質構造を解明するためにSEMとTEMと共に,垂直および水平FIB断面ミリングによって特性化した。NPSiの調製に続いて,Al_2O_3とTiO_2via原子層堆積(A LD)で官能化した。TiO_2~-官能化NPSiはロバストで機能性多孔質基質として赤外-その有望性を示す可視波長用の6 8%,2 3%の反射率を示した。スパッタ核形成触媒を用いたMACEを採用する開発した方法は,シリコン中の機能的超高アスペクト比ナノ細孔のスケーラブルな作製を容易にした。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *アスペクト比 ,  アノード酸化 ,  ロバスト性 ,  フォトリソグラフィー ,  *ケイ素 ,  *多孔性 ,  核形成 ,  反射率 ,  細孔 ,  官能化 ,  光触媒
準シソーラス用語： 多孔構造 ,  *ナノポーラス ,  *機能性 ,  *高アスペクト比 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 触媒 ,  高アスペクト比 ,  機能性 ,  多孔質シリコン