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J-GLOBAL ID：201702241796346588   整理番号：17A1722863

積層導波路集積フォトニックデバイス製造の一つの代替法【Powered by NICT】

Laminated Waveguides - An alternative approach to the production of integrated photonic devices

著者 (3件)： Kelb Christian (Hanover Centre for Optical Technologies, Leibniz Universitaet Hannover, 30167 Hannover, Germany) ,  Reithmeier Eduard (Hanover Centre for Optical Technologies, Leibniz Universitaet Hannover, 30167 Hannover, Germany) ,  Roth Bernhard (Hanover Centre for Optical Technologies, Leibniz Universitaet Hannover, 30167 Hannover, Germany)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： CLEO/Europe-EQEC  ページ： 1  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,反応性積層[1]によって実現した埋込高分子光導波路の新しいタイプの応用シナリオを示した。完全高分子フォトニックシステムの分野では,導波路は主にシリコンまたは高分子基板上の重合体の直接構造化あるいはホットエンボス加工とスピンコーティングまたはdoctorbladingの組合せによるか,いずれによっても製造した。これらの過程は,単一モード能力を有する低減衰導波路の生産を示したが,利用プロセスは,例えばフォトマスクまたはシリコン熱エンボス加工スタンプのような高価なツールの必要としている。すべての原料は既にスプールまたはコイルに供給されるので用いた方法は活性積層剤[1+2]を用いたポリ(メタクリル酸メチル)(PMMA)基板と環状オレフィン高分子(COP)モノフィラメントを接合するために,モノリシック,全高分子導波路,ロール・ツー・ロール製造プロセスに適したを形成した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 構造形成 ,  フォトマスク ,  高分子 ,  光導波路 ,  エンボス加工 ,  重合体 ,  *導波路 ,  生産工程 ,  スピンコーティング ,  ケイ素 ,  単一モード
準シソーラス用語： ロール・ツー・ロール方式 ,  高分子導波路 ,  ホットエンボス加工 ,  *フォトニックデバイス , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 導波路 ,  集積 ,  フォトニックデバイス ,  代替法