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J-GLOBAL ID：201702241846445161   整理番号：17A0971208

セピオライトへのTh(IV)のスペシエーションへの新たな洞察:EXAFSとモデル化研究のための証拠【Powered by NICT】

New insights into Th(IV) speciation on sepiolite: Evidence for EXAFS and modeling investigation

著者 (7件)： Hu Baowei (School of Life Science, Shaoxing University, Huancheng West Road 508, Shaoxing 312000, PR China) ,  Hu Qingyuan (Department of Architectural Engineering for Shaoxing University Yuanpei College, Shaoxing 312000, PR China) ,  Chen Chengguang (Department of Architectural Engineering for Shaoxing University Yuanpei College, Shaoxing 312000, PR China) ,  Sun Yubing (Key Laboratory of Novel Thin Film Solar Cells, Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Science, P.O. Box 1126, Hefei 230031, PR China) ,  Sun Yubing (School for Radiological and Interdisciplinary Sciences, Soochow University, Suzhou 215123, PR China) ,  Xu Di (State Key Laboratory of Lake Science and Environment, Nanjing Institute of Geography and Limnology, Chinese Academy of Sciences, Nanjing 210008, PR China) ,  Sheng Guodong (School of Life Science, Shaoxing University, Huancheng West Road 508, Shaoxing 312000, PR China)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 322  ページ： 66-72  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： セピオライト上のTh(IV)の相互作用機構をバッチ,EXAFSと表面錯体生成モデリングにより調べた。バッチ実験は,セピオライト上のTh(IV)の収着は,pH<5.0ではイオン強度の増加に伴って著しく減少したことを明らかにしたが,pH>5.0で観察されたTh(IV)の除去に及ぼすイオン強度の影響はなかった。セピオライト上のTh(IV)の除去速度と吸着等温式は擬二次とLangmuirモデルでシミュレートした,それぞれ満足できる。pHが5.0と7.5でセピオライトTh(IV)のEXAFSスペクトルの解析は,pHが5.0と7.5でセピオライト上へのTh(IV)の収着は,内圏表面錯体形成と表面沈殿であることを示した。表面錯化モデリングの結果は,セピオライト上のTh(IV)収着は,pH>7.0でほぼ中性と表面沈殿でpH<4.5,内側の球表面錯化(SOTh~3+種)での陽イオン交換サイト(X_4Th種)により非常に良くフィットできることを示した。これらの発見は,水-鉱物界面におけるTh(IV)の運命と輸送の評価のために重要である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *モデリング ,  錯体生成 ,  *セピオライト ,  陽イオン交換 ,  吸着等温式 ,  相互作用 ,  沈殿 ,  収着 ,  *スペシエーション ,  イオン強度 ,  *EXAFS ,  界面
準シソーラス用語： Langmuirモデル ,  表面錯体生成 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： セピオライト ,  Th(IV) ,  EXAFS ,  表面錯体生成モデリング ,  吸着機構

分類 (2件)： 吸着,イオン交換  (XD02060I) ,  下水,廃水の物理的処理  (SC03040L)

タイトルに関連する用語 (8件)： セピオライト ,  Th ,  スペシエーション ,  洞察 ,  EXAFS ,  モデル化 ,  研究 ,  証拠