抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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実生活応用におけるプラズモンとナノ光学素子の広範な採用への主要な挑戦の一つは,並列的および再現可能な様式でナノ光アンテナを質量作製の困難さおよびナノアンテナを置くナノメートルスケール精度でデバイスに正確にできることである。もう一つの大きな課題は,多くの時間を実用的かつ効率的デバイスへの三次元空間のすべてに分布していることが理想的な光学構造の翻訳である。これらの課題への有効な解決法は,単一段階製造プロセスにおける光単一モードファイバのコアへの機能性光学素子を作製するための最新の紫外ナノインプリントリソグラフィー(UV NIL)の利用であることが証明されている。技術はビームスプリッタ[1](図1)またはFrenelレンズ[2](2)のようないくつかの装置上に証明されている。この技術は光回路の光学素子の完全および安定なアラインメントを可能にする単一モードファイバは光学デバイス完全マッチング光学素子の設計を可能にするに衝突するとデバイスの安定な回答を維持する同じビーム構成を示した。この概念から,「campanileの近接場プローブ[3]を模倣することが可能である,この場合プローブはプラズモン設計に基づいており,もう一つの金のメタライゼーション段階[4]を必要とした。,製造プロセスに関連し,プラズモン構造の唯一の違いは,campanileの失われた「塔」部分である。ピラミッドの設計は図3に示されたように,光ファイバモードの最適化すれば直線部分を除去できることを光導波路の調和断面である。既存のギャップを持つインプリントされたピラミッド型プローブはサブ≦100nmの位置精度で同軸整列機能を持つ特注のインプリンタツール,続いて金属化過程を用いて作製した。走査電子顕微鏡写真は,繊維間の効率的な光結合と形成された光学変圧器(図4)を容易にするために薄い残留層をもつ高インプリント忠実度と精度を確認した。この新しいナノ作製法はナノ光デバイスの低コスト,高スループット,かつ再現性のある製造を約束する。インプリントされたプローブの機能性を,40nmポリスチレン蛍光ビーズの分散膜のハイパースペクトルナノPLマッピングを行うことにより検証した。トポグラフィー走査とPLマップの両方を従来のFIB作製した光学変圧器プローブの挙動と一致する特徴を示した。結果はインプリントされたcampanileプローブは~80nmの分解能,チップ先端でのギャップサイズにより決定によるサブ回折限界イメージングを可能とすることを示した。ここに提示した作製プロセスは,より高いスループットのためのスケールと並列化でき,ナノ光デバイスの大量生産のための有望な経路を提供する。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
