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J-GLOBAL ID：201702242458551548   整理番号：17A1057440

ナノシリカ充填ポリウレタンフィルムの機械的性質に及ぼす電子線照射効果【Powered by NICT】

Electron beam irradiation effect on the mechanical properties of nanosilica-filled polyurethane films

著者 (7件)： Dong Fei (Binghamton University (SUNY), Materials Science and Engineering Program, Binghamton, NY 13902, USA) ,  Maganty Suraj (Binghamton University (SUNY), Materials Science and Engineering Program, Binghamton, NY 13902, USA) ,  Meschter Stephan J. (BAE Systems, Electronics Systems, Endicott, NY 13760, USA) ,  Nozaki Shinji (University of Electro-Communications, Department of Computer and Network Engineering, Chofu-shi, Tokyo 182-8585, Japan) ,  Ohshima Takeshi (Takasaki Advanced Radiation Research Institute, National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology, Takasaki, Gunma, 370-1292, Japan) ,  Makino Takahiro (Takasaki Advanced Radiation Research Institute, National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology, Takasaki, Gunma, 370-1292, Japan) ,  Cho Junghyun (Binghamton University (SUNY), Materials Science and Engineering Program, Binghamton, NY 13902, USA)
資料名： Polymer Degradation and Stability  (Polymer Degradation and Stability)
巻： 141  ページ： 45-53  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0404B  ISSN： 0141-3910  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリウレタン(PU)は空間電子部品に適したコーティング剤とその製造性および望ましい機械的性質のために,基板として使用できる良好な候補である。も,最終的には電気的故障をもたらすことを長期使用下でのすずリッチ表面上で成長するからとのスズホイスカを維持した。PU被覆は,その化学構造と機械的挙動を変化させる最終的宇宙環境における照射損傷の影響を受けやすいことができる。本研究では,PUベースコーティング(PUとナノシリカ粒子を含まない充填;とナノシリカ粒子を含まない充填ポリウレタンアクリレート(PUA))の四種類は三電子ビーム照射フルエンス(1 × 10~14 cm~ 2, 1 × 10~15 cm~ 2, 1 × 10~16 cm~ 2)下での化学構造と対応する機械的性質に及ぼす照射損傷を理解するために調べた。赤外分光法は照射により化学結合の分解を調べるために用いた。ミクロ相分離,架橋密度,分子鎖運動性は照射後のガラス転移温度のシフトをモニタリングすることによって示差走査熱量測定(DSC)により調べた。PU膜に及ぼす電子ビーム照射はキノン構造が生成したが,PUA膜上に,ミクロ相分離が増加し,それによって両方の膜が強く,硬く,がより延性が少なくより脆性にした。結果として,照射の高フルエンス下でPUとPUA被覆は,スズホイスカ侵入しやすいであろう。本研究はまた,PUとPUA膜の照射損傷を遅らせるに及ぼすナノシリカの影響の可能性を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： ガラス転移点 ,  電子照射 ,  脆性 ,  ミクロ相分離 ,  示差走査熱量測定 ,  フルエンス ,  架橋度 ,  宇宙環境 ,  キノン ,  被覆 ,  照射損傷 ,  化学結合 ,  *機械的性質
準シソーラス用語： 化学構造 ,  *シリカナノ粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： コンフォーマルコーティング ,  電子ビーム照射 ,  ポリウレタン ,  アクリレートポリウレタン ,  ナノシリカ ,  機械的性質

分類 (3件)： 高分子の分解,劣化  (CG03010A) ,  抵抗性  (YH02050K) ,  放射線高分子化学  (CG03050S)

タイトルに関連する用語 (4件)： ナノシリカ ,  ポリウレタンフィルム ,  機械的性質 ,  電子線照射効果