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J-GLOBAL ID：201702242459439730   整理番号：17A0968384

酸性溶液中の水素発生反応に対するMoS_2の還元グラフェン酸化物の影響【Powered by NICT】

The effect of reduced graphene oxide on MoS₂ for the hydrogen evolution reaction in acidic solution

著者 (5件)： Lv Jinlong (Fracture and Reliability Research Institute, School of Engineering, Tohoku University, Sendai 9808579, Japan) ,  Yang Meng (Fracture and Reliability Research Institute, School of Engineering, Tohoku University, Sendai 9808579, Japan) ,  Liang Tongxiang (School of Materials Science and Engineering, Jiangxi University of Science and Technology, Ganzhou, Jiangxi 341000, China) ,  Ken Suzuki (Fracture and Reliability Research Institute, School of Engineering, Tohoku University, Sendai 9808579, Japan) ,  Hideo Miura (Fracture and Reliability Research Institute, School of Engineering, Tohoku University, Sendai 9808579, Japan)
資料名： Chemical Physics Letters  (Chemical Physics Letters)
巻： 678  ページ： 212-215  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0824A  ISSN： 0009-2614  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 純MoS_2とMoS_2@reducedグラフェン酸化物は一段階水熱法により市販のTiプレート上に合成した。正孔ミクロスフェアの合成に成功した。Tiプレート上に得られたMoS_2@reducedグラフェン酸化物電極は,水素発生反応のためのTiプレート上に純MoS_2電極よりも高い触媒活性を示した。添加では,優れたサイクル安定性もTiプレート上にMoS_2@reducedグラフェン酸化物電極で得られた。このような強化された触媒活性と優れたサイクル安定性は触媒エッジサイト,高い比表面積およびMoS_2と還元グラフェン酸化物の間のユニークな相乗効果の存在量により生じた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 比表面積 ,  ミクロスフェア ,  相乗作用 ,  水熱合成 ,  触媒活性 ,  *水素発生反応 ,  チタン ,  触媒 ,  *還元 ,  正孔
準シソーラス用語： *酸化グラフェン ,  *酸性溶液 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： MoS_2 ,  還元された酸化グラフェン ,  水素発生反応 ,  ミクロスフェア ,  相乗効果

分類 (5件)： 静電機器  (NB10020R) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  LCR部品  (NA05030D) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (3件)： 酸性溶液 ,  水素発生反応 ,  還元グラフェン酸化物