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J-GLOBAL ID：201702242588184897   整理番号：17A0678485

オキシ炭窒化ケイ素ナノコンポジット膜の組成および機械的特性に及ぼす合成条件の影響

The Influence of the Conditions of Synthesis on the Composition and Mechanical Properties of Silicon Oxycarbonitride Nanocomposite Films

著者 (5件)： FAINER N. I. (Nikolaev Inst. Inorganic Chemistry, Russian Acad. Sci., Novosibirsk, RUS) ,  PLEKHANOV A. G. (Nikolaev Inst. Inorganic Chemistry, Russian Acad. Sci., Novosibirsk, RUS) ,  KHOMYAKOV M. N. (Inst. Laser Physics, Russian Acad. Sci., Novosibirsk, RUS) ,  MAKSIMOVSKIY E. A. (Nikolaev Inst. Inorganic Chemistry, Russian Acad. Sci., Novosibirsk, RUS) ,  RUMYANTSEV Yu. M. (Nikolaev Inst. Inorganic Chemistry, Russian Acad. Sci., Novosibirsk, RUS)
資料名： Protection of Metals and Physical Chemistry of Surfaces  (Protection of Metals and Physical Chemistry of Surfaces)
巻： 53  号： 2  ページ： 253-260  発行年： 2017年03月 
JST資料番号： W1019A  ISSN： 2070-2051  CODEN： PTNMAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザンまたは1,1,3,3-テトラメチルジシラザンの混合ガスを用いて,O₂およびN₂ガスの存在下で,373~973Kの温度範囲でプラズマ化学気相成長法により,SiC_xN_yO_z:Hナノ複合膜を作製した。得られた膜の化学組成および相組成に対する合成条件の影響を調査した。N₂ガスの増加によって,膜中の水素濃度の増加と炭素濃度の減少,α-Si₂CN₄,α-SiC₂N₄,α-C₃N₄などの固相成分も減少し,膜の硬さとヤング率が低下した。成長温度の上昇は硬さおよびヤング率の上昇をもたらした。得られた硬さおよびヤング率の最大値は,それぞれ20.4および201.5GPaであった。

シソーラス用語： *窒化物 ,  *炭化物 ,  *ケイ素化合物 ,  酸化物 ,  ナノ複合材料 ,  *複合膜 ,  化学合成 ,  混合気体 ,  シラザン誘導体 ,  酸素 ,  窒素 ,  加熱温度 ,  プラズマCVD ,  水素 ,  化学組成 ,  相組成 ,  濃度依存性 ,  微小硬さ ,  Young率
準シソーラス用語： 炭窒化ケイ素

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (2件)： 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルプロパンジシラザン ,  1,1,3,3-テトラメチルプロパンジシラザン

タイトルに関連する用語 (4件)： 炭窒化ケイ素 ,  ナノコンポジット膜 ,  組成 ,  機械的特性