反応性スパッタリングによるSiO<sub>x</sub>のin-situ成膜速度モニタリング

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J-GLOBAL ID：201702242878729311 整理番号：17A1140827

反応性スパッタリングによるSiO_xのin-situ成膜速度モニタリング

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資料名：
巻： 78th ページ： ROMBUNNO.7p-A402-13 発行年： 2017年08月25日
JST資料番号： Y0055B ISSN： 2758-4704 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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酸化物薄膜

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