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J-GLOBAL ID：201702242992901855   整理番号：17A0625996

六方晶系窒化ホウ素成長のための電気化学合成された多結晶銅表面

Electrochemically Prepared Polycrystalline Copper Surface for the Growth of Hexagonal Boron Nitride

著者 (10件)： SRIDHARA Karthik (Univ. Maryland, Maryland, USA) ,  SRIDHARA Karthik (U.S. Naval Res. Lab., Washington, D.C., USA) ,  FEIGELSON Boris N. (U.S. Naval Res. Lab., Washington, D.C., USA) ,  WOLLMERSHAUSER James A. (U.S. Naval Res. Lab., Washington, D.C., USA) ,  HITE Jennifer K. (U.S. Naval Res. Lab., Washington, D.C., USA) ,  NATH Anindya (U.S. Naval Res. Lab., Washington, D.C., USA) ,  NATH Anindya (George Mason Univ., Virginia, USA) ,  HERNANDEZ Sandra C. (U.S. Naval Res. Lab., Washington, D.C., USA) ,  FUHRER Michael S. (Monash Univ., Victoria, AUS) ,  GASKILL D. Kurt (U.S. Naval Res. Lab., Washington, D.C., USA)
資料名： Crystal Growth & Design  (Crystal Growth & Design)
巻： 17  号： 4  ページ： 1669-1678  発行年： 2017年04月 
JST資料番号： W1323A  ISSN： 1528-7483  CODEN： CGDEFU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 特徴的な物理的及び化学的性質から2次元六方晶系窒化ホウ素(2Dh-BN)は種々の分野での応用が期待されている。2Dh-BNの化学蒸着/成長は通常,冷延プロセスを用いて作製した銅(Cu)箔上で行われるが,現在,市販されている銅箔には高さが100μm程度の微視的畝が存在する。本研究ではこの欠点を除去するため,還元性環境中での熱的アニーリングと(50%リン酸+25%酢酸+25%エチレングリコール)電解質溶液中で電気化学研磨を行うことにより,Cu基板の表面粗さ約1.2nm(平方自乗平均)まで減らすことができた。その結果,この銅箔を基板として大面積の実用的に有効な平坦なh-BNを作製することができた。

シソーラス用語： *窒化ホウ素 ,  *六方晶系 ,  銅箔 ,  *表面粗さ ,  *電解研磨 ,  化学蒸着 ,  アニーリング【現象】

分類 (2件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  非金属化合物  (CD01070R)

タイトルに関連する用語 (5件)： 六方晶系窒化ホウ素 ,  成長 ,  電気化学合成 ,  多結晶 ,  銅