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J-GLOBAL ID：201702243187697261   整理番号：17A0476799

遮光を活用した異方性反射の印刷法

著者 (5件)： 櫻井快勢 (ドワンゴUEIリサーチ) ,  土橋宜典 (ドワンゴUEIリサーチ) ,  土橋宜典 (北大) ,  西田友是 (ドワンゴUEIリサーチ) ,  西田友是 (広島修道大)
資料名： 情報処理学会全国大会講演論文集
巻： 79th  号： 4  ページ： 4.25-4.26  発行年： 2017年03月16日 
JST資料番号： S0731A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 遮光 ,  反射 ,  *印刷 ,  異方性 ,  *プリンタ ,  印刷インク

分類 (2件)： 印刷  (ZA05040A) ,  入出力装置  (JC04050U)

引用文献 (4件)：

• P. Pjanic, R. D. Hersch: ”Color changing effects with anisotropic halftone prints on metal,” ACM Transaction on Graphics, 34, 6, Article 167 (2015)
• P. Pjanic, R. D. Hersch: ”Color imaging and pattern hiding on a metallic substrate,” ACM Transaction on Graphics, 34, 4, Article 130 (2015)
• Y. Lan, Y. Dong, F. Pellacini, X. Tong: ”Bi-scale appearance fabrication,” ACM Transaction on Graphics, 32, 4, Article 145 (2013)
• A. Levin, D. Glasner, Y. Xiong, F. Durand, W. Freeman, W. Matusik, T. Zickler: ”Fabricating BRDFs at high spatial resolution using wave optics,” ACM Transaction on Graphics, 32, 4, Article 144 (2013)

タイトルに関連する用語 (3件)： 遮光 ,  活用 ,  異方性