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J-GLOBAL ID：201702243499824505   整理番号：17A1640461

熱ナノインプリントリソグラフィーを用いた共役重合体のエレクトロクロミック性能の向上【Powered by NICT】

Enhancing the electrochromic performance of conjugated polymers using thermal nanoimprint lithography

著者 (5件)： Neo Wei Teng (Institute of Materials Research and Engineering, A*STAR (Agency for Science, Technology and Research), 2 Fusionopolis Way, Innovis, #08-03, Singapore 138634. [e-mail] [e-mail]) ,  Li Xue ,  Chua Soo-Jin ,  Ling Chong Karen Siew ,  Xu Jianwei
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 7  号： 77  ページ： 49119-49124  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱ナノインプリントリソグラフィーは2,5-ビス(2-オクチルドデシル)-3,6-ジ(チオフェン-2-イル)-2,5-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピロール-1,4-ジオン,3,3-ビス((テトラデシルオキシ)メチル)-3,4-ジヒドロ 2H チエノ[3,4 b][1,4]ジオキセピンとチエノ[3,2 b]チオフェン単量体から合成した共役高分子膜上の周期的ナノ構造を直接生成する効率的な方法として利用した。275nmパターンを持つナノパターン化高分子膜のこのタイプは,直接,トップダウン熱ナノインプリンティング法を用いて達成し,吸収/透過型エレクトロクロミック素子を作製した。ナノパターン化デバイスはスイッチング速度,着色効率だけでなく,強化された着色に透過光学コントラストが20%までの改善により証明されたようにそれらの非ナノ構造プリスチン対応物よりもかなり良好な全体的なエレクトロクロミック性能を示した。エレクトロクロミック性能の改善は,共役高分子膜のナノ構造により誘導される増加した露出した高分子表面積によるものであり,それは100~130nmのインプリント深さの増加は,より短いスイッチング速度と高い着色効率のようなエレクトロクロミック性能をさらに向上させたという事実によって実証した。添加では,視野角に関係なく同一色相を示す元のパターンのない高分子膜とは異なり,ナノインプリント膜は,周囲白色光を回折させるためにナノ格子の能力のために,異なる視野角の下で異なる色相を与え,多くの興味深い応用への道を開く可能性がある。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 単量体 ,  ナノ構造 ,  高分子 ,  高分子膜 ,  *共役 ,  色相 ,  コントラスト
準シソーラス用語： 視野角 ,  着色効率 ,  スイッチング速度 ,  エレクトロクロミック素子 ,  *ナノインプリント ,  ナノパターン ,  *共役重合体 ,  *ナノインプリントリソグラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： ナノインプリントリソグラフィー ,  共役重合体